Resumo

GUTIERREZ, César  e  PILCO, Alex. Optimización de la remoción de compuestos orgánicos persistentes mediante el proceso foto-fenton. Rev. Soc. Quím. Perú [online]. 2020, vol.86, n.1, pp.58-69. ISSN 1810-634X.  http://dx.doi.org/10.37761/rsqp.v86i1.273.

La metodología de superficie de respuesta se aplicó para evaluar la condición óptima experimental a fin de remover los compuestos orgánicos persistentes de un agua residual textil sintética usando un reactor fotoquímico en lote a escala laboratorio. Cuatro factores a tres niveles fueron estudiados: relación de reactivos Fenton H2O2/Fe2+ 11,25, 18,75, 26,25 mg/L/mg/L, potencia de lámpara UV 4, 11, 18 W, pH 2, 3, 4 y tiempo de tratamiento 60, 120, 180 min. Los niveles óptimos encontrados para los cuatro factores fueron: relación de reactivos Fenton H2O2/Fe2+ igual a 17 mg/L/mg/L, potencia de lámpara UV igual a 4 W, pH igual a 3 y tiempo de tratamiento de 180 min. Se encontró que el proceso foto-Fenton es muy efectivo para tratar el agua residual textil sintética, encontrándose una remoción de un 86 %, respecto al DQO.

Palavras-chave : Foto-Fenton; agua residual textil; diseño de experimentos; demanda química de oxígeno.

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